キヤノンは２１日、半導体の製造に使われる「露光装置」の生産を、２０２７年に前年比で最大２倍に増やす計画を明らかにした。人工知能（ＡＩ）の普及に伴って半導体の需要が急拡大する中、国内外の半導体メーカーの増産投資に対応し、製造装置の生産能力を強化する。　露光装置は半導体の材料となるウエハー（基板）に光を照射し、回路を焼き付ける装置。先端半導体用の極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置はオランダのＡＳＭＬが独占するものの、キヤノンはメモリーやパワー半導体の製造工程で多く使用されるｉ線露光装置でトップシェアを持つ。　増産には、２５年に完成した宇都宮市の新工場などを活用。２６年の生産台数は２２７台の見込みだが、２７年には１．５～２倍の３４０～４５０台程度の規模まで増やす方針だ。　産業機器を担当する武石洋明専務は取材に対し、「台湾や韓国、中国だけでなく、世界中の半導体メーカーで投資計画が動いている。２８年までは継続する可能性がある」と述べ、半導体メーカーの投資拡大で製造装置の需要も伸びるとの見通しを示した。